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系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜,可用于制备Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta等金属薄膜,也可以用于制备氧化铝、氧化钛、氧化锆、ITO、等非金属薄膜。
主要用于半导体器件制备过程中的金属、金属氮化物、金属氧化物等薄膜的沉积。
主要由溅射沉积室、磁控溅射靶、溅射电源、旋转加热基片台、加热系统、真空获得系统、工艺气路、安装机台、真空测量、水冷却及报警和控制系统等部分组成。
真空镀膜设备
磁控溅射镀膜机
聚派涂膜科技(苏州)有限公司是一家专门从事派瑞林(Parylene)真空镀膜设备研发、销售、生产和服务于一体的技术企业。
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