真空蒸镀:
其原理是在真空条件下,用蒸腾器加热膜料,使其气化或升华,蒸腾粒子流直接射向基片,并在基片上堆积构成固态薄膜的技能。蒸腾同时也分电子束蒸腾和电阻蒸腾、感应蒸腾等。
溅射镀膜:
是真空条件下,在阴极接上高压电,激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极靶材,使其射出膜料粒子,并堆积到基片上构成膜层。
离子镀膜:
离子镀膜通常指在镀膜过程中会产生大量离子的镀膜办法。在膜的构成过程中,基片始终受到高能粒子的炮击,膜层强度和结合力非常强。离子镀膜镀制高精密的膜层时,可以加过滤掉大颗粒的离子,这样能到达高结构,高致密性的膜层。
日常常见的就是这三种真空镀膜设备镀膜技能,详细选择那一种,要看是镀什么膜层,是镀什么工件等。